Wenn ich die Technologiemeldungen zu NIL edr letzten Monate überschlägig bewerte so habe ich den Eindruck, dass sich für die zukünftigen Anwenderfirmen ein Innovationsdruck aufgebaut hat dem sie nachgeben müssen.
Intel stellt seinen PRAM Chip vor dessen Herstellung NIL-basiert ist.
Intel hat aber bis noch vor einem Jahr stark auf EUV gesetzt gehabt.
Welcher Wandel?!
Nun diese Meldung von Fujitsu:
http://www.fujitsu.com/emea/news/pr/fel-en_20070809.htmlWenn ich darin lese:
"...a breakthrough for future HDD capacity expansion. At that time, one-dimensionally aligned alumina nanohole patterns with 25nm pitch were produced to support one Terabit/in2 bit recording density......the patterned alumina nanohole media was fabricated using nano-imprint lithography,..."
und mir nun die Referenzliste von Obducat hervorhole und dort auch Fujitsu lese,so hat diese Meldung für mich schon ihren Charme.
So denken wohl auch die Leute bei SI (siehe oben)
Übrigens habe ich Epistar,die taiwanesichen LED-Hersteller dnen Obducat kürzlich
ein Sindre 60 System geliefert hatte, noch gar nicht auf der Referenzliste gefunden.
Auch koreliert dies alles sehr gut mit dem Fahrplan den Obducat für die Anwendung in den einzelnen Technologiefeldern veröffentlicht hat.